据专家介绍，国内光刻机90nm工艺技术与荷兰asml光刻机7nm工艺技术至少有15年的差距。制造工艺上的差距主要反映了与西方发达国家在精密制造领域的差距。
光刻机的格局目前，光刻机市场几乎被荷兰asml、日本尼康、佳能、上海微电子所垄断。它分为三个梯队。荷兰asml垄断高端光刻机市场份额，日本尼康、佳能处于中端市场，同时争夺低端市场，上海微电子只有低端市场。
上海微电子成立于2002年。在成立之初，它访问了荷兰的asml，并被嘲笑说"即使所有的图纸和零件都给了你，你也不能把它们组装起来。自力更生之后，上海微电子只是打了外企的脸。2007年，90纳米制程工艺的光刻机研制成功。
世界与。;美国最先进的光刻机制造商是荷兰的asml，只有荷兰的asml能生产7纳米euv光刻机。mainlandchina的晶圆代工厂smic，大多使用asml的高端光刻机，已经量产14nm工艺芯片，突破了n1和n2工艺，但后续的先进工艺技术仍然需要euv光刻机。smic早在2018年就成功预订了《瓦森纳协定》，这些顶级部件是对禁运的。
上海微电子是一个系统集成商，它不t自己生产关键部件，所以它制造22纳米以下的高端光刻机不是它的责任。消息称，上海微电子已突破28nm制程工艺关键技术。但由于供应链的影响，量产时间尚未确定。
就目前情况来看，只能做好低端领域，慢慢培育国内供应链，逐步向高端光刻机领域发展。
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在这里，默认情况下，您已经构建了一个新项目。点击[file]菜单下的[new],打开用户设计和建立向导，在[new]中选择[designfiles]-[blockdiagram/原理图文件]进行原理图文件输入。
建立原理图设计文件
呼叫参数数字化元件，在绘图区域双击鼠标左键打开添加符号元件的窗口。
调用输入端口"输入和输出和逻辑器件"74138和分别是。
绘图控制操作，使用缩放工具按钮后，请切换回按钮(选择和画线工具)来编辑绘图。
从符号库中调出需要的输入输出端口，整齐排列。
完成画线连接操作(鼠标放在端点时，会自动捕捉，按下左键拖动到目标，松开后完成一次画线操作)。
鼠标左键双击端口名称，如电路74138的y7n端子所示，直接输入自定义名称。74138逻辑测试电路原理图设计！
在下拉菜单[处理]中选择[开始编译],开始整个编译。
编写全过程分析报告；
选择处理/开始编译，自动完成分析、调试、综合、改编、汇编、时序分析的全过程。
在编译期间，错误消息由下面的信息栏(红色字体)指示。双击此信息以定位错误，纠正错误并在此编译，直到所有错误都被消除。
编译成功后，会弹出编译报告，显示相关编译信息。
quartusii的编译器由一系列处理模块组成；这些模块负责错误检测、逻辑综合、结构综合、输出结果的编辑和配置以及设计项目的时序分析；
在此过程中，设计项目适应fpga/cpld目标器件，同时生成多用途输出文件，如功能和时序信息文件、器件编程目标文件等。
编译器首先检查出工程设计文件中可能存在的错误信息，供设计者排除，然后生成用结构化网表文件表示的电路原理图文件；
工程编制完成后，可以通过时序仿真分析设计结果是否满足设计要求；创建波形向量文件
添加一个固定节点，然后选择菜单视图-实用程序窗口-节点查找器。
选择"引脚:未分配"在“过滤器”下，然后单击"列表和列出引脚端口。
在找到的节点下的列表中选择列出的端口，并将其拖放到波形文件的引脚编辑区域。
设置模拟时间长度，并选择菜单[编辑]-[结束时间]命令。默认值为1us，这里设置为100us。
设置模拟时间段，并选择菜单[edit]-[gridsize…]命令。默认值为10ns。由于竞争冒险的存在，仿真时信号波形和大量毛刺混在一起，影响了仿真结果。因此，这里设置为500ns。
编辑输入端口信号，并使用窗口缩放(左键缩放，右键缩放)将波形缩放到适当的程度。
开始时序模拟，在在【处理】下拉菜单中选择【开始仿真】，分析波形可见，与74ls138功能真值表一致，结果正确。
